在生產(chǎn)多晶硅的生產(chǎn)技術(shù)中，改良西門子法為主要的生產(chǎn)方法。多晶硅還原爐是多晶硅生產(chǎn)中產(chǎn)出*終產(chǎn)品的核心設(shè)備，其主要由鐘罩、底盤、電極等關(guān)鍵部件組成，也是決定系統(tǒng)產(chǎn)能、安全的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

在多晶硅生產(chǎn)中，還原爐爐內(nèi)溫度1080-1100，tcs和氫氣在還原爐鐘罩內(nèi)部反應(yīng)。在反應(yīng)過(guò)程中，還原爐鐘罩表面上會(huì)沉積一定厚度的多晶硅副產(chǎn)物、硅粉等。但多晶硅生產(chǎn)對(duì)還原爐的沉積環(huán)境的潔凈度要求特別關(guān)鍵，任何顆粒性雜質(zhì)、物料等物質(zhì)余留在爐內(nèi)，都會(huì)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。所以在還原爐運(yùn)行一個(gè)周期結(jié)束后，需要對(duì)還原爐鐘罩內(nèi)部進(jìn)行充分的清洗。
 

德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗設(shè)備，由高壓熱水清洗動(dòng)力裝置、熱風(fēng)凈化烘干機(jī)組、清洗烘干工作臺(tái)及管道，電氣控制系統(tǒng)組成，能夠代替人工完成多晶硅還原爐鐘罩的清洗及烘干流程。系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏全自動(dòng)控制，全套德高潔版控制軟件，操作簡(jiǎn)單自動(dòng)化程度高，還原爐鐘罩到位→預(yù)清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走。

清洗原理：清洗時(shí)以高壓水射流為動(dòng)力的自驅(qū)動(dòng)三維旋轉(zhuǎn)噴頭形成360°，的網(wǎng)狀高壓水柱噴射表面，從而完成鐘罩內(nèi)部表面的水力掃射，并采用濃度10％以上堿液為主要清洗液。先用純水漂洗、然后堿液，之后再采用高純水沖洗，*終完成清洗過(guò)程。清洗過(guò)程中三維清洗噴頭在選裝過(guò)程中可自動(dòng)升降，因此可以全面的對(duì)還原爐鐘罩內(nèi)部進(jìn)行清洗，確保還原爐鐘罩內(nèi)部的清洗質(zhì)量
 
系統(tǒng)烘干原理：完成充分的清洗后，用凈化熱風(fēng)烘干裝置，凈化熱風(fēng)烘干裝置設(shè)置有進(jìn)風(fēng)、凈化、排風(fēng)、風(fēng)機(jī)、加熱部件，出風(fēng)口受控加熱。經(jīng)過(guò)三級(jí)凈化(10萬(wàn)級(jí))的純凈空氣，通過(guò)梯級(jí)加熱，通過(guò)連續(xù)干燥，完成干燥過(guò)程。

密閉清洗方法：整個(gè)還原爐鐘罩內(nèi)部清洗及烘干過(guò)程中，在密閉環(huán)境下進(jìn)行，設(shè)置耐酸堿和耐高溫的橡膠密封圈于鐘罩和工作臺(tái)的連接面處，清洗時(shí)廢氣揮發(fā)及廢水飛濺對(duì)周圍環(huán)境及工作人員造成負(fù)面影響。 德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗系統(tǒng)，從操作簡(jiǎn)單，自動(dòng)化程度高，整套系統(tǒng)安全可靠，程度穩(wěn)定，目前系統(tǒng)已經(jīng)覆蓋90%的多晶硅生產(chǎn)企業(yè)，為多晶硅還原爐生產(chǎn)廠家提供更加環(huán)保、高效、安全的還原爐鐘罩自動(dòng)清解決方案，歡迎電話聯(lián)系，德高潔竭誠(chéng)為您服務(wù)。